|
资产编号 |
S20120230 |
 |
|
仪器名称 |
|
|
英文名称 |
|
|
规格/型号
|
JZCK450-3C/JZCK450-3C |
|
生产厂商 |
|
|
国别 |
中国 |
|
所属单位 |
电气信息工程学院>>西二楼413 |
放置地点 |
西二楼413(西二楼413) |
|
使用日期 |
|
电子邮箱 |
2013064@zzuli.edu.cn |
|
性能指标 |
1.结构形式：筒形上升盖，C450×400；
2.极限真空：6.6×10-5 Pa；
3.保压：关机12小时真空度小于等于10 Pa；
4.基片加热温度：室温-650℃；
5.烘烤温度：室温-150℃；
6.冷却方式：水冷；
7.溅射均匀性：小于等于10%；
8.真空系统配置：复合分子泵+机械泵。
|
|
主要应用 |
主要应用于塑料制品、陶瓷、树脂/水晶玻璃制品、工艺品、塑料手机壳、电子产品等行业。
|
|
样品要求 |
基片尺寸：小于等于Φ4英寸；能耐高温
|
|
仪器说明 |
主要使用直流（或中频）磁控溅射，可适应广泛镀膜靶材，如：铜、钛、铝、金等金属材料，可利用溅射工艺进行镀膜，提高膜层的附着力、重复性、致密度、均匀度等特点
|
| 学习资料 |
|