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资产编号 |
S20135107 |
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仪器名称 |
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英文名称 |
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规格/型号
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DY-2000A/DY-2000A |
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生产厂商 |
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国别 |
中国 |
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所属单位 |
材料与化学工程学院>>化工楼115 |
放置地点 |
化工楼115(化工楼115) |
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使用日期 |
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电子邮箱 |
0 |
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性能指标 |
作图方式 矢量扫描
作图精度 采用16位高精度D/A
曝光速度 图形发生器控制速度 10MHz
工件台移动范围 50mm×50mm
工件台测量精度 60nm（光栅测量）
工件台最大移动速度 25mm/s
曝光范围 20mm×20mm
最小线宽 ≤70nm（W灯丝）
图形拼接精度 120nm
多场图形套刻精度 120nm
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主要应用 |
DY-2000A型纳米通用图形发生器是纳米加工的重要装备，与扫描电子显微镜(FESEM)结合使用，构建成纳米加工的重要设备，进行纳米图形加工和纳米微结构制造。
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样品要求 |
纳米级和微米级以下尺寸
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仪器说明 |
1. FESEM中放入棋盘格，打开扫描电镜，打开DY2000A电脑主机，利用扫描电镜和发生仪进行纳米场校正。
2. 设计需要的纳米图形，电镜中放入甩过胶的硅片，在硅片上选择合适的位置微调图像，直至最佳状态。
3. 调出预先校正的场并应用到设计的图形中。
4. 点击发生仪上的电镜控制，在DY2000A软件上设置曝光计量，步长，束流等，进行曝光。
5. 取出曝光过的硅片，在显影定影液中显影、定影。
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| 学习资料 |
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